የሲሊኮን ቴርማል ኦክሳይድ ዋፈር

አጭር መግለጫ፡-

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. በዋፈር እና የላቀ ሴሚኮንዳክተር ፍጆታዎች ላይ የተካነ መሪ አቅራቢ ነው።ለሴሚኮንዳክተር ማምረቻ፣ ለፎቶቮልታይክ ኢንዱስትሪ እና ለሌሎች ተዛማጅ መስኮች ከፍተኛ ጥራት ያላቸውን፣ አስተማማኝ እና አዳዲስ ምርቶችን ለማቅረብ ቆርጠናል።

የእኛ የምርት መስመር እንደ ሲሊከን ካርቦይድ ፣ ሲሊኮን ናይትራይድ ፣ እና አልሙኒየም ኦክሳይድ እና ወዘተ ያሉ የተለያዩ ቁሳቁሶችን ያካተተ በሲሲ/ታሲ የተሸፈኑ ግራፋይት ምርቶችን እና የሴራሚክ ምርቶችን ያጠቃልላል።

በአሁኑ ጊዜ ንፅህናን 99.9999% የሲሲ ሽፋን እና 99.9% ሪክሪስታላይዝድ ሲሊኮን ካርቦይድን ለማቅረብ ብቸኛው አምራች ነን።ከፍተኛው የሲሲ ሽፋን ርዝመት 2640 ሚሜ ማድረግ እንችላለን.

ኢሜይል ይላኩልን።

የምርት ዝርዝር

የምርት መለያዎች

የሲሊኮን ዋፈር የሙቀት ኦክሳይድ ንብርብር ከኦክሳይድ ወኪል ጋር በከፍተኛ የሙቀት ሁኔታ ውስጥ በሲሊኮን ቫፈር ባዶ ወለል ላይ የተፈጠረ ኦክሳይድ ንብርብር ወይም የሲሊኮን ንብርብር ነው።ሲሊከን ዋፈር ያለውን አማቂ ኦክሳይድ ንብርብር አብዛኛውን ጊዜ አግዳሚ ቱቦ እቶን ውስጥ አድጓል, እና ዕድገት የሙቀት መጠን በአጠቃላይ 900 ° C ~ 1200 ° ሴ ነው, እና "እርጥብ oxidation" እና "ደረቅ oxidation" ሁለት እድገት ሁነታዎች አሉ.የሙቀት ኦክሳይድ ንብርብር ከሲቪዲ የተከማቸ ኦክሳይድ ንብርብር የበለጠ ተመሳሳይነት ያለው እና ከፍተኛ የዲኤሌክትሪክ ጥንካሬ ያለው “ያደገ” ኦክሳይድ ንብርብር ነው።የሙቀት ኦክሳይድ ንብርብር እንደ ኢንሱሌተር በጣም ጥሩ የዲኤሌክትሪክ ሽፋን ነው።በብዙ ሲሊኮን ላይ በተመሰረቱ መሳሪያዎች ውስጥ የሙቀት ኦክሳይድ ንብርብር እንደ doping blocking layer እና surface dielectric ጠቃሚ ሚና ይጫወታል።

ጠቃሚ ምክሮች: የኦክሳይድ አይነት

1. ደረቅ ኦክሳይድ

ሲሊከን ከኦክሲጅን ጋር ምላሽ ይሰጣል, እና የኦክሳይድ ንብርብር ወደ መሰረታዊ ንብርብር ይንቀሳቀሳል.ደረቅ ኦክሳይድ ከ 850 እስከ 1200 ዲግሪ ሴንቲ ግሬድ ባለው የሙቀት መጠን መከናወን አለበት, እና የእድገቱ መጠን ዝቅተኛ ነው, ይህም ለ MOS የኢንሱሌሽን በር እድገት ሊያገለግል ይችላል.ከፍተኛ ጥራት ያለው, እጅግ በጣም ቀጭን የሲሊኮን ኦክሳይድ ንብርብር በሚያስፈልግበት ጊዜ, ደረቅ ኦክሳይድ በእርጥብ ኦክሳይድ ይመረጣል.

ደረቅ ኦክሳይድ አቅም፡ 15nm ~ 300nm(150A ~ 3000A)

2. እርጥብ ኦክሳይድ

ይህ ዘዴ የሃይድሮጅን እና ከፍተኛ ንፅህና ያለው ኦክሲጅን ቅልቅል በ ~ 1000 ° ሴ ለማቃጠል ይጠቀማል, በዚህም የውሃ ትነት በመፍጠር ኦክሳይድ ንብርብር ይፈጥራል.ምንም እንኳን እርጥብ ኦክሳይድ እንደ ደረቅ ኦክሳይድ ከፍተኛ ጥራት ያለው የኦክሳይድ ንብርብር ማምረት ባይችልም ፣ ግን እንደ ገለልተኛ ዞን ለመጠቀም በቂ ፣ ከደረቅ ኦክሳይድ ጋር ሲነፃፀር ከፍተኛ የእድገት መጠን ያለው መሆኑ ግልፅ ጠቀሜታ አለው።

እርጥብ ኦክሳይድ አቅም፡ 50nm ~ 15µm (500A ~ 15µm)

3. ደረቅ ዘዴ - እርጥብ ዘዴ - ደረቅ ዘዴ

በዚህ ዘዴ ንፁህ ደረቅ ኦክሲጅን ወደ ኦክሳይድ እቶን ውስጥ በመነሻ ደረጃው ውስጥ ይወጣል ፣ ሃይድሮጂን በኦክሳይድ መካከል ይጨመራል ፣ እና ሃይድሮጂን በመጨረሻው ላይ ይከማቻል እና ኦክሳይድን በንጹህ ደረቅ ኦክስጅን ለመቀጠል ጥቅጥቅ ያለ ኦክሳይድ መዋቅር ይፈጥራል። የተለመደው እርጥብ ኦክሳይድ ሂደት በውሃ እንፋሎት መልክ።

4. TEOS ኦክሳይድ

የኦክሳይድ ቴክኒክ 氧化工艺	እርጥብ ኦክሳይድ ወይም ደረቅ ኦክሳይድ 湿法氧化/干法氧化
ዲያሜትር 硅片直径	2″/3″/4″/6″/8″/12″ 英寸
የኦክሳይድ ውፍረት 氧化层厚度	100 Å ~ 15µm 10 nm ~ 15µm
መቻቻል 公差范围	+/- 5%
ወለል 表面	ነጠላ የጎን ኦክሳይድ (ኤስኤስኦ) / ባለ ሁለት ጎን ኦክሳይድ (DSO) 单面氧化/双面氧化
እቶን 氧化炉类型	አግድም ቱቦ እቶን 水平管式炉
ጋዝ 气体类型	ሃይድሮጅን እና ኦክስጅን ጋዝ 氢氧混合气体
የሙቀት መጠን 氧化温度	900℃ ~ 1200 ℃ 900 ~ 1200摄氏度
አንጸባራቂ መረጃ ጠቋሚ 折射率	1.456